効果

・砥粒を均一に分散・コントロールし、凝集を防ぐ。

・適度な潤滑性により、ウェーハ割れ・欠けの発生を防ぐ。

・砥粒の固着を防止し、加工後の洗浄を軽減する。

・加工レート及び表面粗さの改善。

・機械設備の防錆。

 

性状

原液の一般性状

試験項目 試験方法 ヴァニラップベース
No.162 No.169
外観 淡黄色 濃黄色
引火点 ℃ JIS K2265 なし なし
密度 g/㎤ JIS K2249 1.145 1.135

5%希釈液の一般性状

試験項目 試験方法 ヴァニラップベース
No.162 No.169
pH (@25℃) JIS Z8802 8.83 12.31
表面張力 mN/m JIS K2241 30.1 30.8
耐荷重試験 MPa JIS K2519 1.470 1.274
摩擦係数 μ 振り子式 0.1216 0.1308
洗浄性試験 % ヴァーデン式 60 70
浸透性試験 秒 ヴァーデン式 98 78

 

分散性比較

◆光学顕微鏡 ~×100

分散剤あり

水のみ

 

 

 

 

 

【実験方法】

1.酸化セリウムスラリーにてガラス基盤をポリッシング加工

2.超音波バスにて3%希釈した洗浄剤の液中に2分間Dip

3.超音波バスにて純水中に2分間Dip

4.スピン乾燥

5.MicroMaxにより撮影、CandelaによりParticleカウントの測定

 

Candela Mapping, Mibromax Images

◆分散剤なし

Reference

Disk1

 

 

 

 

 

◆分散剤あり

ヴァニラップベースNo.162

Disk1

 

 

 

 

 

 

ヴァニラップベースNo.169

Disk1

 

 

 

 

 

 

加工後の基盤に対する砥粒固着を計測。

分散剤を使用しない場合、一面に残渣となったが、分散剤を使用した場合は洗浄され易く、残渣が少ない。

 

研磨特性試験

分散剤なし

粗さ Ra 0.427μm Ry 2.43μm

 

 

 

 

ヴァニラップベースNo.162

粗さ Ra 0.167μm Ry 1.34μm

 

 

 

 

他社品

粗さ Ra 0.218μm Ry 1.54μm

 

 

 

 

研磨特性結果

 

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